MRP系列磁流体抛光机应用案例二
日期:2022-04-27 10:16:54
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MRP系列磁流体抛光机应用案例二:高精度修形(0.32 RMS→1/1002 RMS,熔石英)
初始状态:表面为传统抛光后亮面,面形误差0.32RMS左右,无明显瑕疵。
最终状态:表面粗糙度小于1nm,面形误差优于1/1002RMS,疵病等级20/10。
工艺过程:磁流变抛光。
加工时间:200mm口径光学元件,10~12小时在机加工时间。
典型案例:微晶材料,200mm圆形截面,二次曲面面形,初始面形精度0.3082 RMS最终面形精度0.0102 RMS,在机加工时间12小时。