MRP系列磁流体抛光机应用案例一

MRP系列磁流体抛光机应用案例一：高精度修形（1/32 RMS→1/902 RMS，微晶）

初始状态：表面为光学面，面形误差1/3入RMS。

最终状态：面形误差1/90入 RMS。

工艺过程：磁流变抛光。

加工时间：400mm口径光学元件，20~50小时。

典型案例：微晶材料，口径422mm，同轴抛物面形状，初始面形精度0.3332 RMS，最终面形精度：0.011入 RMS，在机加工时间共25小时（第一刀15小时，第二刀5小时，第三刀5小时）。